一种完美替代电解铜箔和压延铜箔的新型材料
载体铜箔
物理性能
通过连续铸造和轧制复合工艺,根据设备控制和工艺调整,采用铝锭、铜板带作为原料,铜铝在复合过程中达到了半熔态,实现了铜铝的100%冶金复合,过程在高温、高压、无氧条件下进行,解决了铜铝复合过程中铜和铝氧化的问题;
满足了两种金属之间热渗透复合温度、时间精确要求,控制了共晶层的形成,扩展,铜铝复合强度高。
全球首创
铜铝半熔态轧制复合工艺(固液复合)
复合工艺
电性
表面性能
总宽度: 最大约1350mm
宽度公差: ±2 mm
厚度范围: 15 ~ 300 μm
厚度公差: ±2 μm
厚度比Cu/Al: 10 % ~ 30%
总宽度: 最大约600 mm
厚度范围: 35 ~ 300 μm
厚度比Cu/Al: 10% ~ 15%
不同复合类型
厚度
15 μm ~ 300 μm
宽度
10 mm ~ 1250 mm
成本
成本约为纯铜箔的 45% ~ 50%
铜占比
铜层厚度比:10-30%
基本参数
抗拉强度
按需定制
延伸率
耐折性
任意折弯
剥离强度
折断不分层
机械加工
可以剪切,钻孔等
黏合性
适宜与多种胶进行黏合
导电性
直流电阻率(Ω.m㎡/m)
0.0245 (20% 铜层)
0.0255 (15% 铜层)
0.0268 (10% 铜层)
根据不用应用,导电性 不同
导热性
铝的体积热容明显小于铜,所以等质量的载体铜箔相比纯铜箔有更好的导热和散热性能。
线膨胀系数 (10-6℃ -1)
20.6 (30~100℃)-(20% 铜层)
我们的载体铜箔采用全球独创的半熔态复合工艺,完美结合了铜和铝,并能够适用于蚀刻、模切等多种加工。即使载体铜箔180°多次对折导致产品破裂,铜铝结合层依然牢固。相比其他铜铝复合或者焊接手段,我们的工艺表现更稳定可靠。
载体铜箔可广泛替代压延铜箔和电解铜箔,为下游的电子电路、光伏、新能源、LED 等多行业降本增效助力。
达因值
大于 42
表面粗糙度
<2um
表面洁净度
低于25RFU
焊锡性
与纯铜一致
表面硬度(HV 0.3)
55~85 (CU) / 30~40 (AL)
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工艺流程
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